廣州HiPIMS,低溫ITO沉積的機(jī)會(huì)!
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新鉑科技(東莞)有限公司成立于2020 年底,是新鉑科技的主要生產(chǎn)基地,具有4條組裝生產(chǎn)線和5條檢測(cè)調(diào)試線,廠房面積2000+,現(xiàn)有員工20+。是國(guó)內(nèi)專業(yè)從事真空鍍膜系統(tǒng)的研發(fā)、制造、銷售為一體的國(guó)家級(jí)高新技術(shù)企業(yè)。其研發(fā)中心位于東莞市松山湖大學(xué)創(chuàng)新城,其研發(fā)人員均為碩士以上學(xué)歷(其中博士6人),在相關(guān)領(lǐng)域發(fā)表學(xué)術(shù)論文300余篇。
研發(fā)人員占比
發(fā)布學(xué)術(shù)論文
客戶好評(píng)
課題合作研發(fā)
定制開發(fā)項(xiàng)目
12月14日,由松山湖材料實(shí)驗(yàn)室、哈爾濱工業(yè)大學(xué)材料結(jié)構(gòu)精密焊接與連接全國(guó)重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室以及等離子體放電團(tuán)隊(duì)孵化的高能脈沖PVD電源企業(yè)新鉑科技(東莞)有限公司聯(lián)合主辦的“2024大灣區(qū)高能脈沖PVD高峰論壇”在松山湖材料實(shí)驗(yàn)室會(huì)議中心成功舉行。...
12月14日,“2024大灣區(qū)高能脈沖PVD論壇”在松山湖材料實(shí)驗(yàn)室舉辦。此次論壇由松山湖材料實(shí)驗(yàn)室、材料結(jié)構(gòu)精密焊接與連接全國(guó)重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室聯(lián)合舉辦,由高能脈沖PVD電源的領(lǐng)軍企業(yè)新鉑科技東莞有限公司提供支持。...
12月14日,來自高校、中國(guó)科學(xué)院、企業(yè)的250多名代表齊聚東莞“2024大灣區(qū)高能脈沖PVD高峰論壇”,共同研討高能脈沖PVD(真空鍍膜)領(lǐng)域的研究成果和未來發(fā)展趨勢(shì)。論壇由松山湖材料實(shí)驗(yàn)室、材料結(jié)構(gòu)精密焊接與連接全國(guó)重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室、新鉑科技(東莞)有限公司聯(lián)合舉辦。...
2024年12月14日,備受矚目的高能脈沖PVD高峰論壇在東莞松山湖材料實(shí)驗(yàn)室盛大召開。 本次論壇匯聚了北京大學(xué)、清華大學(xué)、浙江大學(xué)、中科院固體所、華南理工大學(xué)、哈爾濱工業(yè)大學(xué)、澳門大學(xué)、香港城市大學(xué)、季華實(shí)驗(yàn)室以及華為、華星光電等250多位國(guó)內(nèi)該領(lǐng)域的專家、學(xué)者以及企業(yè)代表,共同探討高能脈沖PVD技術(shù)的進(jìn)展與未來趨勢(shì),為行業(yè)的發(fā)展注入了新的活力與智慧。...
真空磁控濺射涂層技術(shù)不同于真空蒸發(fā)涂層技術(shù)。濺射是指核能顆粒轟擊固體表面(目標(biāo)),使固體原子或分子從表面射出的現(xiàn)象。...
在工業(yè)領(lǐng)域,像高功率脈沖激光加工設(shè)備,為實(shí)現(xiàn)材料切割、焊接或表面處理,其脈沖頻率一般在幾十赫茲到幾千赫茲。例如切割薄金屬板材時(shí),幾十赫茲的脈沖頻率能在保證切割質(zhì)量的同時(shí),有效控制熱影響區(qū)域,防止板材因過熱變形。...
在化學(xué)氣相沉積(CVD)真空鍍膜中,反應(yīng)氣體的選擇與配比宛如一雙無形卻有力的大手,對(duì)鍍膜的成分和性能起著決定性作用。...
設(shè)備精度保障:使用高精度的鍍膜設(shè)備,如采用電子束蒸發(fā)或磁控濺射設(shè)備,其厚度控制精度可達(dá)納米級(jí)。這些設(shè)備配備膜厚監(jiān)測(cè)儀,實(shí)時(shí)反饋膜層生長(zhǎng)情況,控制提供硬件基礎(chǔ)。...
光學(xué)性能需求:若要提高鏡片的透光率,可選擇二氧化硅(SiO?)、二氧化鈦(TiO?)等具有特定折射率和低吸收特性的材料來制作增透膜。若是制備光學(xué)反射鏡,則可選用鋁(Al)、銀(Ag)等具有高反射率的金屬材料。...
在石油行業(yè),人們正在努力提高原油回收效率。例如,注入二氧化碳可以將原油的生產(chǎn)效率提高10%~15%。然而,隨著石油產(chǎn)量的增加,也面臨著更多的挑戰(zhàn),管道腐蝕是其中之一。對(duì)于二氧化碳增強(qiáng)采收率(EOR)技術(shù),生產(chǎn)油水混合物因高壓與二氧化碳過飽和而酸化,...
真空鍍膜技術(shù)實(shí)現(xiàn)多層膜的沉積主要通過以下幾種方式: 一、交替沉積法...
一般來說,真空鍍膜可以具有較好的附著力。這主要是因?yàn)樵谡婵窄h(huán)境下,鍍膜材料的原子或分子能夠以較高的能量和純凈度沉積在基材表面。與傳統(tǒng)的鍍膜方法相比,真空鍍膜減少了雜質(zhì)和氧化的影響,從而有利于提高鍍膜與基材之間的結(jié)合力。...
HiPIMS(高功率脈沖磁控濺射,High Power Impulse Magnetron Sputtering)是一種薄膜沉積技術(shù),它利用高頻脈沖電源產(chǎn)生的高密度等離子體來進(jìn)行材料的濺射沉積。相較于傳統(tǒng)的直流磁控濺射(DCMS),HiPIMS技術(shù)具有更高的離子化率、更好的薄膜質(zhì)量以及更均勻的薄膜厚度等優(yōu)點(diǎn)。因此,HiPIMS技術(shù)在薄膜沉積領(lǐng)域得到了廣泛的應(yīng)用,尤其是在制備高質(zhì)量、高性能薄膜材料方面表現(xiàn)突出。...