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HIPIMS是高功率脈沖磁控濺射技術(shù)（High power impulse magnetron sputtering）的簡稱，其原理是利用較高的脈沖峰值功率和較低的脈沖占空比來產(chǎn)生高濺射金屬離化率的一種磁控濺射技術(shù)。

HiPIMS-400A 是由新鉑科技打造的一款適用于高校鍍膜實驗需求的真空鍍膜電源，可直流+脈沖組合輸出，脈沖峰值電流高，具有高離化率，放電密度大、粒子能量高、反應(yīng)活性好?？勺鳛橹绷鞔趴貫R射電源的升級替代方案，無需改動即可用于現(xiàn)有磁控系統(tǒng)?？垢g、耐磨損的硬質(zhì)鍍膜工藝中，高功率脈沖磁控濺射應(yīng)用是首選。

產(chǎn)品特點：

多波形設(shè)置，具有反向抑弧能力，膜層更細(xì)膩。

特別適合于高校PVD創(chuàng)新工藝的多波形設(shè)定。

可手機遠(yuǎn)程監(jiān)視和控制，調(diào)節(jié)各種參數(shù)，遠(yuǎn)程關(guān)閉電源，監(jiān)控電源運行情況。

畫面完全同步，指令反饋迅速且精準(zhǔn)。走路、吃飯均可控之方便，甚至實驗中途去洗手間也會更從容。