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成都HiPIMS，低溫ITO沉積的機會！
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關(guān)于新鉑
新鉑科技（東莞）有限公司成立于2020 年底，是新鉑科技的主要生產(chǎn)基地，具有4條組裝生產(chǎn)線和5條檢測調(diào)試線，廠房面積2000+，現(xiàn)有員工20+。是國內(nèi)專業(yè)從事真空鍍膜系統(tǒng)的研發(fā)、制造、銷售為一體的國家級高新技術(shù)企業(yè)。其研發(fā)中心位于東莞市松山湖大學創(chuàng)新城，其研發(fā)人員均為碩士以上學歷（其中博士6人），在相關(guān)領(lǐng)域發(fā)表學術(shù)論文300余篇。
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60%
研發(fā)人員占比
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300+
發(fā)布學術(shù)論文
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4.5星級
客戶好評
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50+個
課題合作研發(fā)
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20+個
定制開發(fā)項目
企業(yè)榮譽
新聞中心
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成都2024大灣區(qū)高能脈沖PVD高峰論壇在松山湖材料實驗室成功舉辦
12月14日，由松山湖材料實驗室、哈爾濱工業(yè)大學材料結(jié)構(gòu)精密焊接與連接全國重點實驗室以及等離子體放電團隊孵化的高能脈沖PVD電源企業(yè)新鉑科技(東莞)有限公司聯(lián)合主辦的“2024大灣區(qū)高能脈沖PVD高峰論壇”在松山湖材料實驗室會議中心成功舉行。...
- 2024-12-18 11:47:48 | →
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成都2024大灣區(qū)高能脈沖PVD論壇在莞舉行
12月14日，“2024大灣區(qū)高能脈沖PVD論壇”在松山湖材料實驗室舉辦。此次論壇由松山湖材料實驗室、材料結(jié)構(gòu)精密焊接與連接全國重點實驗室聯(lián)合舉辦，由高能脈沖PVD電源的領(lǐng)軍企業(yè)新鉑科技東莞有限公司提供支持。...
- 2024-12-18 10:37:22 | →
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成都250多名高能脈沖PVD專家齊聚東莞，共探技術(shù)產(chǎn)業(yè)融合路徑
12月14日，來自高校、中國科學院、企業(yè)的250多名代表齊聚東莞“2024大灣區(qū)高能脈沖PVD高峰論壇”，共同研討高能脈沖PVD（真空鍍膜）領(lǐng)域的研究成果和未來發(fā)展趨勢。論壇由松山湖材料實驗室、材料結(jié)構(gòu)精密焊接與連接全國重點實驗室、新鉑科技（東莞）有限公司聯(lián)合舉辦。...
- 2024-12-18 10:34:05 | →
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成都2024大灣區(qū)高能脈沖 PVD 高峰論壇成功舉辦，引領(lǐng)行業(yè)前沿發(fā)展
2024年12月14日，備受矚目的高能脈沖PVD高峰論壇在東莞松山湖材料實驗室盛大召開。 本次論壇匯聚了北京大學、清華大學、浙江大學、中科院固體所、華南理工大學、哈爾濱工業(yè)大學、澳門大學、香港城市大學、季華實驗室以及華為、華星光電等250多位國內(nèi)該領(lǐng)域的專家、學者以及企業(yè)代表，共同探討高能脈沖PVD技術(shù)的進展與未來趨勢，為行業(yè)的發(fā)展注入了新的活力與智慧。...
- 2024-12-18 10:28:35 | →
成都真空磁控濺射涂層技術(shù)與真空蒸發(fā)涂層技術(shù)的區(qū)別
真空磁控濺射涂層技術(shù)不同于真空蒸發(fā)涂層技術(shù)。濺射是指核能顆粒轟擊固體表面（目標），使固體原子或分子從表面射出的現(xiàn)象。...
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成都HiPIMS磁控濺射：材料制備的新趨勢
HiPIMS磁控濺射技術(shù)具有獨特的優(yōu)勢。與傳統(tǒng)磁控濺射相比，它能在高功率脈沖模式下運行，產(chǎn)生高密度的等離子體。這使得濺射出來的原子或離子具有更高的能量和活性，在材料沉積過程中，可以更好地控制薄膜的微觀結(jié)構(gòu)...
- 2024-12-17 14:10:55 | →
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成都真空鍍膜技術(shù)中，薄膜厚度的測量和控制是如何實現(xiàn)的？
這是一種常用的測量方法。其原理是基于光的干涉現(xiàn)象。當一束光照射到薄膜表面時，部分光被反射，部分光透過薄膜在基底和薄膜的界面再次反射，這兩束反射光會發(fā)生干涉。通過檢測干涉條紋的變化來確定薄膜的厚度。...
- 2024-12-04 15:33:37 | →
成都管道結(jié)垢難題有解了！DLC薄膜助力石油行業(yè)發(fā)展！
在石油行業(yè)，人們正在努力提高原油回收效率。例如，注入二氧化碳可以將原油的生產(chǎn)效率提高10%~15%。然而，隨著石油產(chǎn)量的增加，也面臨著更多的挑戰(zhàn)，管道腐蝕是其中之一。對于二氧化碳增強采收率（EOR）技術(shù)，生產(chǎn)油水混合物因高壓與二氧化碳過飽和而酸化，...
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成都真空鍍膜技術(shù)如何實現(xiàn)多層膜的沉積
真空鍍膜技術(shù)實現(xiàn)多層膜的沉積主要通過以下幾種方式： 一、交替沉積法...
- 2024-10-31 10:29:45 | →
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成都真空鍍膜的附著力探討
一般來說，真空鍍膜可以具有較好的附著力。這主要是因為在真空環(huán)境下，鍍膜材料的原子或分子能夠以較高的能量和純凈度沉積在基材表面。與傳統(tǒng)的鍍膜方法相比，真空鍍膜減少了雜質(zhì)和氧化的影響，從而有利于提高鍍膜與基材之間的結(jié)合力。...
- 2024-10-19 15:32:17 | →
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成都HiPIMS電源可以沉積氧化物嗎
HiPIMS（高功率脈沖磁控濺射，High Power Impulse Magnetron Sputtering）是一種薄膜沉積技術(shù)，它利用高頻脈沖電源產(chǎn)生的高密度等離子體來進行材料的濺射沉積。相較于傳統(tǒng)的直流磁控濺射（DCMS），HiPIMS技術(shù)具有更高的離子化率、更好的薄膜質(zhì)量以及更均勻的薄膜厚度等優(yōu)點。因此，HiPIMS技術(shù)在薄膜沉積領(lǐng)域得到了廣泛的應(yīng)用，尤其是在制備高質(zhì)量、高性能薄膜材料方面表現(xiàn)突出。...
- 2024-09-29 10:22:14 | →
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成都HIPiMS技術(shù)在沉積過程中如何控制薄膜的微觀結(jié)構(gòu)
HIPiMS技術(shù)的核心是使用高功率脈沖放電，這導(dǎo)致了等離子體密度和離子化率的顯著提高。通過調(diào)整脈沖峰值功率，可以改變?yōu)R射粒子的能量分布。較高的功率通常會導(dǎo)致更高的離子化率，從而影響薄膜的致密度和附著力。...
- 2024-09-25 15:29:36 | →