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北京HiPIMS，低溫ITO沉積的機(jī)會(huì)！
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關(guān)于新鉑
新鉑科技（東莞）有限公司成立于2020 年底，是新鉑科技的主要生產(chǎn)基地，具有4條組裝生產(chǎn)線和5條檢測(cè)調(diào)試線，廠房面積2000+，現(xiàn)有員工20+。是國(guó)內(nèi)專業(yè)從事真空鍍膜系統(tǒng)的研發(fā)、制造、銷售為一體的國(guó)家級(jí)高新技術(shù)企業(yè)。其研發(fā)中心位于東莞市松山湖大學(xué)創(chuàng)新城，其研發(fā)人員均為碩士以上學(xué)歷（其中博士6人），在相關(guān)領(lǐng)域發(fā)表學(xué)術(shù)論文300余篇。
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60%
研發(fā)人員占比
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300+
發(fā)布學(xué)術(shù)論文
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4.5星級(jí)
客戶好評(píng)
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50+個(gè)
課題合作研發(fā)
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20+個(gè)
定制開發(fā)項(xiàng)目
企業(yè)榮譽(yù)
新聞中心
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北京2024大灣區(qū)高能脈沖PVD高峰論壇在松山湖材料實(shí)驗(yàn)室成功舉辦
12月14日，由松山湖材料實(shí)驗(yàn)室、哈爾濱工業(yè)大學(xué)材料結(jié)構(gòu)精密焊接與連接全國(guó)重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室以及等離子體放電團(tuán)隊(duì)孵化的高能脈沖PVD電源企業(yè)新鉑科技(東莞)有限公司聯(lián)合主辦的“2024大灣區(qū)高能脈沖PVD高峰論壇”在松山湖材料實(shí)驗(yàn)室會(huì)議中心成功舉行。...
- 2024-12-18 11:47:48 | →
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北京2024大灣區(qū)高能脈沖PVD論壇在莞舉行
12月14日，“2024大灣區(qū)高能脈沖PVD論壇”在松山湖材料實(shí)驗(yàn)室舉辦。此次論壇由松山湖材料實(shí)驗(yàn)室、材料結(jié)構(gòu)精密焊接與連接全國(guó)重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室聯(lián)合舉辦，由高能脈沖PVD電源的領(lǐng)軍企業(yè)新鉑科技東莞有限公司提供支持。...
- 2024-12-18 10:37:22 | →
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北京250多名高能脈沖PVD專家齊聚東莞，共探技術(shù)產(chǎn)業(yè)融合路徑
12月14日，來自高校、中國(guó)科學(xué)院、企業(yè)的250多名代表齊聚東莞“2024大灣區(qū)高能脈沖PVD高峰論壇”，共同研討高能脈沖PVD（真空鍍膜）領(lǐng)域的研究成果和未來發(fā)展趨勢(shì)。論壇由松山湖材料實(shí)驗(yàn)室、材料結(jié)構(gòu)精密焊接與連接全國(guó)重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室、新鉑科技（東莞）有限公司聯(lián)合舉辦。...
- 2024-12-18 10:34:05 | →
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北京2024大灣區(qū)高能脈沖 PVD 高峰論壇成功舉辦，引領(lǐng)行業(yè)前沿發(fā)展
2024年12月14日，備受矚目的高能脈沖PVD高峰論壇在東莞松山湖材料實(shí)驗(yàn)室盛大召開。 本次論壇匯聚了北京大學(xué)、清華大學(xué)、浙江大學(xué)、中科院固體所、華南理工大學(xué)、哈爾濱工業(yè)大學(xué)、澳門大學(xué)、香港城市大學(xué)、季華實(shí)驗(yàn)室以及華為、華星光電等250多位國(guó)內(nèi)該領(lǐng)域的專家、學(xué)者以及企業(yè)代表，共同探討高能脈沖PVD技術(shù)的進(jìn)展與未來趨勢(shì)，為行業(yè)的發(fā)展注入了新的活力與智慧。...
- 2024-12-18 10:28:35 | →
北京真空磁控濺射涂層技術(shù)與真空蒸發(fā)涂層技術(shù)的區(qū)別
真空磁控濺射涂層技術(shù)不同于真空蒸發(fā)涂層技術(shù)。濺射是指核能顆粒轟擊固體表面（目標(biāo)），使固體原子或分子從表面射出的現(xiàn)象。...
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北京HiPIMS磁控濺射：材料制備的新趨勢(shì)
HiPIMS磁控濺射技術(shù)具有獨(dú)特的優(yōu)勢(shì)。與傳統(tǒng)磁控濺射相比，它能在高功率脈沖模式下運(yùn)行，產(chǎn)生高密度的等離子體。這使得濺射出來的原子或離子具有更高的能量和活性，在材料沉積過程中，可以更好地控制薄膜的微觀結(jié)構(gòu)...
- 2024-12-17 14:10:55 | →
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北京hipims電源能否當(dāng)作偏壓電源使用
HIPIMS（高功率脈沖磁控濺射）電源在一定條件下可以當(dāng)作偏壓電源使用，但也存在一些限制。...
- 2024-12-17 14:02:34 | →
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北京真空鍍膜技術(shù)中，薄膜厚度的測(cè)量和控制是如何實(shí)現(xiàn)的？
這是一種常用的測(cè)量方法。其原理是基于光的干涉現(xiàn)象。當(dāng)一束光照射到薄膜表面時(shí)，部分光被反射，部分光透過薄膜在基底和薄膜的界面再次反射，這兩束反射光會(huì)發(fā)生干涉。通過檢測(cè)干涉條紋的變化來確定薄膜的厚度。...
- 2024-12-04 15:33:37 | →
北京管道結(jié)垢難題有解了！DLC薄膜助力石油行業(yè)發(fā)展！
在石油行業(yè)，人們正在努力提高原油回收效率。例如，注入二氧化碳可以將原油的生產(chǎn)效率提高10%~15%。然而，隨著石油產(chǎn)量的增加，也面臨著更多的挑戰(zhàn)，管道腐蝕是其中之一。對(duì)于二氧化碳增強(qiáng)采收率（EOR）技術(shù)，生產(chǎn)油水混合物因高壓與二氧化碳過飽和而酸化，...
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北京真空鍍膜技術(shù)如何實(shí)現(xiàn)多層膜的沉積
真空鍍膜技術(shù)實(shí)現(xiàn)多層膜的沉積主要通過以下幾種方式： 一、交替沉積法...
- 2024-10-31 10:29:45 | →
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北京真空鍍膜的附著力探討
一般來說，真空鍍膜可以具有較好的附著力。這主要是因?yàn)樵谡婵窄h(huán)境下，鍍膜材料的原子或分子能夠以較高的能量和純凈度沉積在基材表面。與傳統(tǒng)的鍍膜方法相比，真空鍍膜減少了雜質(zhì)和氧化的影響，從而有利于提高鍍膜與基材之間的結(jié)合力。...
- 2024-10-19 15:32:17 | →
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北京HiPIMS電源可以沉積氧化物嗎
HiPIMS（高功率脈沖磁控濺射，High Power Impulse Magnetron Sputtering）是一種薄膜沉積技術(shù)，它利用高頻脈沖電源產(chǎn)生的高密度等離子體來進(jìn)行材料的濺射沉積。相較于傳統(tǒng)的直流磁控濺射（DCMS），HiPIMS技術(shù)具有更高的離子化率、更好的薄膜質(zhì)量以及更均勻的薄膜厚度等優(yōu)點(diǎn)。因此，HiPIMS技術(shù)在薄膜沉積領(lǐng)域得到了廣泛的應(yīng)用，尤其是在制備高質(zhì)量、高性能薄膜材料方面表現(xiàn)突出。...
- 2024-09-29 10:22:14 | →
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北京HIPiMS技術(shù)在沉積過程中如何控制薄膜的微觀結(jié)構(gòu)
HIPiMS技術(shù)的核心是使用高功率脈沖放電，這導(dǎo)致了等離子體密度和離子化率的顯著提高。通過調(diào)整脈沖峰值功率，可以改變?yōu)R射粒子的能量分布。較高的功率通常會(huì)導(dǎo)致更高的離子化率，從而影響薄膜的致密度和附著力。...
- 2024-09-25 15:29:36 | →