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HiPIMS設(shè)備產(chǎn)品介紹：
高功率離子源在高離子電流密度下在更大面積上實(shí)現(xiàn)均勻、更大的離子沉積分布。
不同金屬、合金和氧化物的混合濺射，膜層均勻。
全自動(dòng)控制系統(tǒng)，防腐能力極高
HiPIMS設(shè)備產(chǎn)品介紹：
高功率離子源在高離子電流密度下在更大面積上實(shí)現(xiàn)均勻、更大的離子沉積分布。
不同金屬、合金和氧化物的混合濺射，膜層均勻。
全自動(dòng)控制系統(tǒng)，防腐能力極高
