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利用HiPIMS制備出的Ti-Si-N薄膜硬度可以達到66GPa！
Ti-Si-N是被認為是一種高硬度的膜層，Veprek（1999）提出了一種結(jié)構(gòu)模型，認為是非晶包含納米晶結(jié)構(gòu)。這有點類似于我們見到的瀝青和石頭混合路面結(jié)構(gòu)。這里的納米晶尺寸和非晶含量的多少是很講究的。
HiPIMS技術(shù)解決碳基涂層
HiPIMS（High Power Impulse Magnetron Sputtering）技術(shù)是一種先進的物理相沉積（PVD）技術(shù)，廣泛用于解決碳基涂層的相關(guān)問題。碳基涂層是一種重要的功能性涂層，應(yīng)用于各種工業(yè)領(lǐng)域，包括刀具、模具、汽車零部件等。下面將詳細介紹HiPIMS技術(shù)如何解決碳基涂層的問題。
HiPIMS技術(shù)解決碳基涂層
HiPIMS(High Power Impulse Magnetron Sputtering)技術(shù)是一種用于制備碳基涂層的先進技術(shù)。碳基涂層是一種由碳元素構(gòu)成的薄膜，具有許多優(yōu)異的性質(zhì)和應(yīng)用。以下是關(guān)于HiPIMS技術(shù)解決碳基涂層的一些信息
鍍膜工藝技術(shù)分類和理論
鍍膜工藝技術(shù)是一種將薄膜或涂層沉積在基材表面的技術(shù)，以改變其表面性能或增加其功能。它在工業(yè)生產(chǎn)和科學研究中具有廣泛的應(yīng)用，從電子設(shè)備到汽車零件，再到醫(yī)療器械，都離不開鍍膜技術(shù)。鍍膜技術(shù)按照不同的原理和方法可分為多種分類。
真空鍍膜設(shè)備原理
真空鍍膜設(shè)備是一種用于在物體表面進行薄膜鍍層的設(shè)備，常見于電子、光學、汽車、裝飾等行業(yè)。其原理主要基于真空蒸發(fā)或磁控濺射等技術(shù)，以下是真空鍍膜設(shè)備的基本原理：
hipims技術(shù)是物理還是化學
HIPIMS（High Power Impulse Magnetron Sputtering）技術(shù)是一種物理上的表面處理技術(shù)，它結(jié)合了直流磁控濺射（DCMS）和脈沖功率供應(yīng)，以實現(xiàn)更高的能量和離子密度。
鍍膜工藝技術(shù)分類和理論
鍍膜工藝技術(shù)是一種將薄膜沉積在基材表面的工藝過程，以增強基材的功能和性能。根據(jù)不同的工藝原理和沉積方法，可以將鍍膜工藝技術(shù)分為不同的分類。以下是關(guān)于鍍膜工藝技術(shù)分類和理論的簡要說明：