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雙脈沖HiPIMS比傳統(tǒng)HiPIMS沉積速率提高近3倍
一種新型的高功率脈沖磁控濺射(HiPIMS)技術(shù)，即放電由脈寬短、電壓高的引燃脈沖和脈寬長(zhǎng)、電壓低的工作脈沖2部分組成的雙脈沖高功率脈沖磁控濺射技術(shù)，目的是解決傳統(tǒng)高功率脈沖磁控濺射沉積速率低的問(wèn)題。
脈沖磁控濺射的工作原理和工作方式
脈沖磁控濺射是采用矩形波電壓的脈沖電源代替?zhèn)鹘y(tǒng)直流電源進(jìn)行磁控濺射沉積。脈沖磁控濺射技術(shù)可以有效的抑制電弧產(chǎn)生進(jìn)而消除由此產(chǎn)生的薄膜缺陷，同時(shí)可以提高濺射沉積速率，降低沉積溫度等一系列顯著優(yōu)點(diǎn)。
公司技術(shù)支撐團(tuán)隊(duì)有7篇文章選登《中國(guó)表面工程》雜志“高離化磁控技術(shù)與應(yīng)用”?？?/a>
公司技術(shù)支撐團(tuán)隊(duì)有7篇文章選登《中國(guó)表面工程》雜志“高離化磁控技術(shù)與應(yīng)用”專刊，彰顯新鉑科技在高功率磁控濺射方面有較多的技術(shù)積累。
真空蒸鍍法與濺射鍍膜技術(shù)介紹
真空蒸鍍法與濺射鍍膜技術(shù)不同區(qū)別的介紹
一、真空蒸鍍法
真空蒸鍍是將裝有基片的真空室抽成真空,然后加熱被蒸發(fā)的鍍料,使其原子或分子從表面氣化逸出,形成蒸氣流,入射到基片表面,凝結(jié)形成固體薄膜的技術(shù).
