真空鍍膜工藝流程

真空鍍膜是一種常見的表面處理工藝，常用于制造光學(xué)鏡片、太陽能電池板、LED等產(chǎn)品。其主要流程包括以下幾個步驟：

1. 基材清洗：將待處理的基材表面進(jìn)行清洗，以去除表面的油污、灰塵等雜質(zhì)，確保表面干凈。

2. 基材加熱干燥：將清洗后的基材進(jìn)行加熱干燥，以去除表面殘留的水分和揮發(fā)性有機(jī)物，確保表面干燥清潔。

3. 蒸發(fā)源裝載：將需要鍍膜的材料（也稱蒸發(fā)源）裝載到真空鍍膜設(shè)備中，并通過控制電流或磁控來加熱材料，使其產(chǎn)生蒸汽。

4. 沉積：將基材置于真空鍍膜設(shè)備內(nèi)，使其表面與蒸發(fā)源中的蒸汽接觸，使蒸汽沉積在基材表面上形成薄膜。

5. 退火：在完成沉積后，進(jìn)行退火處理，以提高薄膜的質(zhì)量和穩(wěn)定性。

6. 放氣：在完成退火處理后，將真空鍍膜設(shè)備內(nèi)的氣體放出，將基材取出并進(jìn)行后續(xù)的加工處理。

以上就是真空鍍膜工藝流程的主要步驟，通過嚴(yán)格控制每個步驟的參數(shù)和條件，可以制造出高質(zhì)量的鍍膜產(chǎn)品。